삼성전자, ‘5나노 반도체 공정’ 개발 성공

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삼성전자가 극자외선(EUV·Extreme Ultra Violet) 기술을 기반으로 하는 ‘5나노 반도체 공정’ 개발에 성공했다. 삼성전자는 16일 “셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있으며 전력 효율을 20% 향상시키는 5나노 파운드리 공정 개발에 성공했다”고 밝혔다. 삼성전자는 또 이달 중에 7나노 제품을 출하하는 한편 올해 안에 양산하는 것을 목표로 6나노 제품의 설계를 완료하는 등 초미세 공정의 기술력을 강화하고 있다고 덧붙였다. 삼성전자는 “초미세 공정 포트폴리오를 확대해 파운드리 기술 리더십과 4차 산업혁명을 이끌 시스템 반도체 사업의 경쟁력을 높이겠다”고 강조했다.